![]() ゲート接続を備えた半導体スイッチング・デバイス
专利摘要:
同軸ゲート接続を備えた半導体スイッチング・デバイス:本発明は、半導体スイッチング・デバイスのカソード、アノード及びゲートがその上に堆積された基板、及び、半導体スイッチング・デバイスのゲートの中のカソードを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段、を有する半導体スイッチング・デバイスを提供する。前記接続手段は、半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有するカソード・ゲート接続ユニットを有している。 公开号:JP2011507244A 申请号:JP2010537367 申请日:2008-11-26 公开日:2011-03-03 发明作者:コテット、ディディーア;スティアスニー、トーマス;ビクストロエム、トビアス 申请人:アーベーベー・リサーチ・リミテッドAbb Research Ltd.; IPC主号:H01L23-48
专利说明:
[0001] 本発明は、一般的に、カソード・アノード・ゲート構造を有する半導体スイッチング・デバイスに係り、特に、半導体スイッチング・デバイスを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続デバイスに係る。特に、この半導体スイッチング・デバイスは、半導体スイッチング・デバイスのカソード、アノード及びゲートがその上に堆積された基板、及び半導体スイッチング・デバイスのカソード、アノード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段、を有している。] 背景技術 [0002] 半導体スイッチング・デバイスの外部回路ユニットへの電気的接続は、重要な問題であって、特に、半導体スイッチング・デバイスが大きな電流及び電圧を取り扱わなければならない場合に、重要な問題である。そのような半導体スイッチング・デバイスの例は、集積ゲート整流サイリスタ(IGCT)である。IGCTは、ゲート・コントロール式のターンオフ・スイッチであって、これは、絶縁ゲート・バイポーラ・トランジスタ(IGBT)のように切断するが、最も低いコンダクタ損失を備えたサイリスタのように電流を伝える。] [0003] 集積ゲート整流サイリスタは、大電力の用途を要求するための電力スイッチング・デバイスであって、その用途は、例えば、中電圧駆動装置、牽引、風力コンバータ、AC励磁システム、電池によるエネルギー貯蔵システム、固体状態ブレーカ、牽引ライン・ブースター、牽引電力補償器、及び誘導加熱などである。IGCTとして構成された半導体スイッチング・デバイスは、今日、その汎用性、効率及びコスト効率のために、様々な用途で使用されている。] [0004] 従来のIGCTデバイスは、図1に示された構造のような、リング状の構造を有している。カソード・ディスクCDは、図1の下側の面として示されている。カソード・ディスクCDの上に、ゲート・ディスクGDが配置され、半導体デバイスへのゲート接続をもたらす。アノード・フェーズAは、外側に沿面距離(creepage distance)Crを有するハウジングHの上面に配置されている。] 図1 [0005] 図2は、図1に示された装置の断面である。沿面距離Crは、アノードAとカソード・ディスクCDの間に形成される。沿面距離Crは、この場合には、セラミックスなどのような絶縁材料から形成されるハウジングHの一部である。カソード・ディスクCD及びゲート・ディスクGDを外部回路ユニットに接続するために、カソード・コンダクタC及びゲート・コンダクタGが設けられている。本質的に、従来技術に基づくこれらの接続は、二枚のディスク使用して、即ち、ゲート・ディスクGD及びカソード・ディスクCDを使用して、行われる。これらのディスクは、ハンダ付けされて、セラミックスをパッケージする。機械的な理由のために、ゲート・ディスクをカソード・ディスクからを分離するセラミックの厚さは、約100Vの電圧で分離される二つの電位を絶縁するために要求されるであろう厚さと比べて、遥かに大きい。] 図1 図2 [0006] 不都合なことに、このことは、ゲート電極とカソード電極の間に、大きな距離をもたらし、それによって、全体としてのループ・インダクタンスが増大を招くことになる。半導体スイッチング・デバイスを外部回路ユニットに接続するために、不都合なことに従来の接続装置の中に形成されるインダクタンス・ループの例が、図2の中の参照符号ILにより示されている。図2に示された漂遊インダクタンスILのような漂遊インダクタンスは、不都合なことに、半導体スイッチング・デバイスのターンオフ性能を低下させる。従来技術による半導体スイッチング・デバイスの他の弱点は、ゲートとカソード・ディスクを分離するセラミック・ハウジングの厚さが大きいために、半導体スイッチング・デバイスのサイズが大きいと言うことである。] 図2 [0007] このようにして、本発明の目的は、カソード・ディスクを有する半導体スイッチング・デバイスを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段を提供することにあり、この接続手段は、低い漂遊インダクタンスを有している。更にまた、コンパクトなサイズを有する半導体デバイスを提供することが、望ましい。] [0008] この目的は、半導体スイッチング・デバイスを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続デバイス、及び独立請求項に基づく半導体スイッチング・デバイスにより実現される。] [0009] 本発明の更に好ましい発展は、従属請求項に基づく。] [0010] 本発明第一のアスペクトによれば、カソード・ディスクを有する半導体スイッチング・デバイスを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続デバイスが提供され、この接続デバイスは、半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有するカソード・ゲート接続ユニットを有し、ここで、前記カソード・コンダクタは、前記カソード・コンダクタを前記カソード・ディスクに接続するように構成されたカソード接続ターミナルを有している。] [0011] 本発明の他のアスペクトによれば、半導体スイッチング・デバイスが提供され、この半導体スイッチング・デバイスは、当該半導体スイッチング・デバイスのカソード・ディスク、アノード及びゲートがその上に堆積された基板;及び、当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段;を有し、ここで、前記接続手段は、当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有するカソード・ゲート接続ユニットを有し、ここで、前記カソード・コンダクタは、前記カソード・コンダクタを前記カソード・ディスクに接続するように構成されたカソード接続ターミナルを有している。] [0012] 本発明の更に他のアスペクトによれば、半導体スイッチング・デバイスが提供され、この半導体スイッチング・デバイスは、当該半導体スイッチング・デバイスのカソード、アノード及びゲートがその上に堆積された基板;及び、当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段;を有し、ここで、前記接続手段は、当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有する少なくとも二つのカソード・ゲート接続ユニットを有し、ここで、前記少なくとも二つのカソード・ゲート接続ユニットは、カソード・ディスクの周りに対称的に配置されている。] [0013] 本発明の実施形態が、図面の中に描かれ、且つ以下の説明の中で詳しく説明される。] [0014] これらの図の中で、同一の参照符号は、同一のまたは同様な部分またはステップを示している。] [0015] 本発明は、従来の半導体スイッチング・デバイス、例えば集積ゲート整流サイリスタ(IGCT)デバイスにおいて、漂遊インダクタンスは、主として、接続ユニットの中に形成されるインダクタンス・ループにより生ずると言うアイデアに基づいている。本発明のコアとなるコンセプトは、漂遊インダクタンスが半導体スイッチング・デバイスを外部回路ユニットに接続するインダクタの適切な配置により回避されることが可能であると言う事実に基づいていて、ここで、コンダクタ装置は、アノード、カソード及びゲート・コンタクトを有している。漂遊インダクタンスを最小化するために、半導体スイッチング・デバイスを外部回路ユニットに接続するゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタは、同軸配置により互いに対して関係付けられる。] [0016] この種類の同軸配置は、半導体スイッチング・デバイスのゲートを外部回路ユニットに接続するためのゲート・コンダクタが、カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタとして形成され、半導体スイッチング・デバイスのカソードを外部回路ユニットに接続するためのカソード・コンダクタが、カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタとして形成されるようにデザインされても良く、また、その反対の構造であっても良い。前記ゲート・カソード接続ユニットの外側のコンダクタ及び内側のコンダクタは、同軸構造として設けられる。このようにして、漂遊インダクタンスが最小化されることが可能であると言うことが、本発明に基づくカソード・ゲート接続ユニットの優位性である。] [0017] 本発明第一のアスペクトによれば、カソード・ディスクを有する半導体スイッチング・デバイスを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続デバイスは、半導体スイッチング・デバイスのゲート及びカソードを外部回路ユニットに電気的に接続するところの、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有するカソード・ゲート接続ユニットを有し、ここで、前記カソード・コンダクタは、カソード・コンダクタをカソード・ディスクに接続するように構成されたカソード接続ターミナルを有している。] [0018] 本発明の好ましい発展によれば、前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタは、絶縁材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁される。] [0019] 本発明他の好ましい発展によれば、前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタは、ポリマーまたはセラミック・ベースの材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁される。] [0020] 好ましくは、前記接続デバイスは、500μmより小さい厚さを有する絶縁体を有している。] [0021] 本発明の第二のアスペクトによれば、半導体スイッチング・デバイスが提供され、この半導体スイッチング・デバイスは、半導体スイッチング・デバイスのカソード・ディスク、アノード及びゲートがその上に堆積された基板;及び、半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段;を有し、ここで、前記カソード・コンダクタは、カソード・コンダクタをカソード・ディスクに接続するように構成されたカソード接続ターミナルを有している。] [0022] 前記接続手段は、半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有するカソード・ゲート接続ユニットを有している。] [0023] 本発明の更に他の発展によれば、前記同軸構造は、半導体スイッチング・デバイスのゲートを外部回路ユニットに接続するためのゲート・コンダクタが、カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタとして形成され、半導体スイッチング・デバイスのカソードを外部回路ユニットに接続するためのカソード・コンダクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタとして形成されるようにデザインされる。その代わりに、前記カソード・コンダクタが、内側のコンダクタとして形成され、前記ゲート・コンダクタが、外側のコンダクタとして形成されても良い。] [0024] 好ましくは、半導体スイッチング・デバイスは、集積ゲート整流サイリスタ(IGCT)である。] [0025] 本発明の更に他の発展によれば、半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段は、半導体スイッチング・デバイスのハウジングに取り付けられる。好ましくは、半導体スイッチング・デバイスのハウジングは、絶縁材料で作られる。] [0026] もし、ハウジングがセラミック材料で作られていれば、好ましい。] [0027] 本発明の更に他の好ましい発展によれば、前記カソード・ディスクは、カソード・ポール、特に、第一のカソード・ポール・ピース及び第二のカソード・ポール・ピースを有している。] [0028] 本発明の更に他の好ましい発展によれば、前記カソード・ゲート接続ユニットのカソード・コンダクタは、前記カソード・コンダクタをカソード・ディスクに接続するためのカソード接続ターミナルを有している。好ましくは、前記カソード・ゲート接続ユニットのゲート・コンダクタは、更に、前記ゲート・コンダクタを外部回路ユニットに接続するためのゲート接続ターミナルを有している。] [0029] 本発明の更に他の好ましい発展によれば、半導体スイッチング・デバイスのハウジングは、アノードからカソード・ディスクへ沿面電流(creepage currnets)をそらせるために、その外側に、少なくとも一つの沿面部分(creepage section)を有している。] [0030] 本発明第三のアスペクトによれば、半導体スイッチング・デバイスが、半導体スイッチング・デバイスのカソード、アノード及びゲートがその上に堆積された基板;及び、半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段;を有している。] [0031] 前記接続手段は、好ましくは、半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有する少なくとも二つのカソード・ゲート接続ユニットを有し、ここで、少なくとも二つのカソード・ゲート接続ユニットは、カソード・ディスクの周りに対称的に配置されている。] [0032] 本発明の更に他の好ましい発展によれば、前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタは、絶縁材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁される。好ましくは、前記カソード・ゲート接続の内側のコンダクタは、ポリマーまたはセラミック・ベースの材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁される。好ましくは、絶縁体は、500μmより小さい厚さを有している。] 図面の簡単な説明 [0033] 図1は、従来技術に基づく半導体スイッチング・デバイスの正面図である。 図2は、図1に示された従来技術に基づく半導体スイッチング・デバイスの断面である。 図3は、本発明に基づく第一の好ましい実施形態の半導体スイッチング・デバイスの正面図である。 図4は、本発明に基づくカソード・ゲート接続ユニットの構造を示している。 図5は、図3に示された半導体スイッチング・デバイスを示し、アノードが取り除かれて、半導体スイッチング・デバイスの内側が見えるようになっている。 図6は、図5に示された半導体スイッチング・デバイスの断面図である。 図7は、本発明第二の好ましい実施形態に基づく半導体スイッチング・デバイスの上面図である。 図8は、本発明第二の実施形態に基づく半導体スイッチング・デバイスの結合された上面図/断面図である。 図9は、様々な半導体スイッチング・デバイスに対するシミュレイションの結果を示し、ここで、漂遊インダクタンスが動作周波数の関数として示されている。 図10は、様々な半導体スイッチング・デバイスに対するコンダクタ抵抗を、動作周波数の関数として示している。] 図1 図10 図2 図3 図4 図5 図6 図7 図8 図9 実施例 [0034] 図3は、本発明の好ましい実施形態に基づく半導体スイッチング・デバイス100を示している。図3に示されているように、半導体スイッチング・デバイスは、カソード・ディスク102、及び、カソード・ディスク102の上面のゲート・ディスク103を有し、ゲート・ディスクは(カソード・ディスク102から絶縁されている)。セラミック材料などのような絶縁材料で作られたハウジング104が、カソード・ディスク102の上面に配置されている。ハウジングは、ハウジング104の上面に配置されたアノード101から、カソード・ディスク102を絶縁するために使用される沿面部分105を有していても良い。この沿面部分105は、アノード101からカソード・ディスク102までの沿面距離を提供し、それによって、沿面電流が、アノード101からカソード・ディスク102までの拡大された距離に支配されるようになる。このようにして、カソード101とアノード・ディスク102の間の絶縁が改善される。] 図3 [0035] 本発明の第一の好ましい実施形態によれば、カソード・ゲート接続ユニット200が、ハウジング104の一方の側に設けられる。このカソード・ゲート接続ユニットは、半導体スイッチング・デバイスの外部回路ユニットに対する電気的接続のために使用される。接続デバイスは、ゲート及び半導体スイッチング・デバイスのカソードの外部回路ユニットに対する接続のために使用される。カソード101は、従来技術の場合と同様に、外部回路ユニットに接続される。] [0036] インダクタンス・ループ(図2参照方)を回避するために、ゲート及びカソード接続は、以下において図4を参照しながら説明されるように、同軸配置として設けられている。カソード・ゲート接続は、アノード及び半導体スイッチング・デバイスのゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための同軸構造を有している。カソード・ゲート接続ユニット200は、図3に示されているように、カソード・コンダクタ202及びゲート・コンダクタ203を有している。カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタ200は、ゲート・コンダクタ203として設けられ、これに対して、カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタ200は、カソード・コンダクタ202として設けられている。カソード・ゲート接続ユニット200の内側のコンダクタ202は、カソード・ゲート接続ユニット200の外側のコンダクタ202から絶縁されている。] 図2 図3 図4 [0037] この絶縁は、絶縁材料で作られた絶縁体を有していても良い。更にまた、カソード・ゲート接続200の内側のコンダクタ203は、ポリマーまたはセラミック・ベースの材料を有する絶縁体により、カソード・ゲート接続ユニット200の外側のコンダクタ202から絶縁されても良い。本発明の好ましい発展によれば、絶縁体は、500μmより小さい厚さを有している。] [0038] 図4は、カソード・ゲート接続ユニット200をより詳細を示している。先に説明したように、ゲート・コンダクタ203は、カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタ200として設けられ、ここで、カソード・コンダクタ202は、カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタ200として設けられている。カソード・ゲート接続ユニットの断面は、円形であって、それによって、図4に示されているように、同軸配置がもたらされるようになる。カソード・コンダクタ202は、以下において図6を参照しながら示されたように、カソード・コンダクタ202をカソード・ディスクに接続するためのカソード接続ターミナル302を有している。更にまた、ゲート・コンダクタ203は、ゲート・コンダクタ203を外部回路ユニット(示されていない)に接続するためのゲート接続ターミナル303を有している。] 図4 図6 [0039] 絶縁体204は、カソード・コンダクタ202をゲート・コンダクタ203から絶縁するために、設けられている。この絶縁は、空気、ポリマーまたはセラミック・ベースの材料などのような絶縁材料、または従来から知られている他の絶縁材料であっても良い。カソード・ゲート接続ユニット200の構造のために、例えばゲート・カソード・ループ・インダクタンスのような、漂遊インダクタンスが最小化される。ここで留意すべきことは、ゲート・カソード・ループ・インダクタンスは、IGCT(集積ゲート整流サイリスタ)のターンオフ性能に対する最も適切なパラメータであると言うことである。] [0040] 図5は、図3に示された半導体100の正面図であって、ここで、半導体スイッチング・デバイス100は、アノード101が取り除かれた状態で示されている。このようにして、ハウジング104の内側が、より詳細に示されている。ここで留意すべきことは、以上において既に説明された部品またはコンポーネントは、説明を簡潔にするために、この更なる説明においては、詳しく説明されないと言うことである。] 図3 図5 [0041] 半導体スイッチング・デバイス100の内側図に示されているように、カソード・ディスク102は、第一のカソード・ポール・ピース304及び第二のカソード・ポール・ピース305を、ハウジング104の内側に有していて、それらは、同軸配置状態になっている。第一のカソード・ポール・ピース304と第二のカソード・ポール・ピース305の間に、ゲート・リング201が設けられ、このゲート・リングは、ゲート・ディスク103と電気的に接触している。カソード・ゲート接続ユニット200のゲート・コンダクタ203により、接触されなければならないのは、このゲート・リング201である。] [0042] 接続が、以下において、図6を参照しながら詳しく説明される。この図6は、半導体スイッチング・デバイス100の一部と共に、カソード・ゲート接続ユニットの断面を示している。図5に示されているように、カソード・コンダクタ202は、ハウジング104の内側の方へ、絶縁ハウジング104を通って到達し、ここで、ゲート・コンダクタ202は、カソード・ディスク102に電気的に接続されている。更にまた、カソード・ゲート接続ユニットがカソード・トレンチ301の中に配置されていることが示されている。] 図5 図6 [0043] ここで留意すべきことは、図5には、唯一つのカソード・ゲート接続ユニット200が示されているが、一つよりも多いカソード・ゲート接続ユニット200が、ハウジング104の周囲に設けられても良いということであって、それは、以下において、本発明の第二の好ましい実施形態の説明に関係して、図7及び8を参照しながら示されることになる。] 図5 図7 [0044] 図6は、図3に示された半導体スイッチング・デバイス100の一部の、A−A線(図3参照方)に沿う断面である。本発明に基づく同軸ゲートのコンセプトが、明瞭に見られることが可能である。図6は、カソード・ディスク102及びアノード101の一部を示している。更にまた、基板112が図の中心部に示されている。更にまた、ハウジング104及び沿面部分105の一部が描かれている。ハウジング104と基板112の間に、絶縁ユニット106が設けられている。上面側には、基板112が、アノード101に接触するためのアノード・コンタクト・レイヤ107として設けられている。基板112の下部には、第一のカソード・ポール・ピース304及び第二のカソード・ポール・ピース305が、カソード・ディスク102に接触するために設けられている。更にまた、ゲート・リング201が、示されていて、このゲート・リングは、ゲート・コンダクタ203により接触される。更にまた、図6の中には、カソード・コンダクタ202がカソード・ディスク102に接続されるところが描かれている。] 図3 図6 [0045] このようにして、図6の断面は、ハウジング104の貫通孔の中に取り付けられたカソード・ゲート接続ユニット200を有している。沿面部分105を介してアノード101からカソード・ディスク102まで、沿面電流が流れることを可能にするために、アノード接続110が、ハウジング104をアノード101に接続するために設けられている。更にまた、カソード接続111が、ハウジング104を通って、カソード・ディスク102を接続するために設けられている。] 図6 [0046] 外部回路ユニット(示されていない)に対するゲート・リング201の接続を可能にするために、ゲート・コンダクタ203には、その左端に、ゲート接続ターミナル303が設けられている。更にまた、カソード・コンダクタ202は、カソード接続ターミナル302を使用することにより、カソード・ディスク102に電気的に接続されている。このようにして、図6の中に描かれているように、電気的接続が、カソード・コンダクタ202とカソード・ディスク102の間に、直接的に且つカソード接続111及びカソード接続ターミナル302を介して設けられる。ゲート・リング201は、絶縁レイヤ109により、周囲から、特にカソード・ディスク102から、絶縁されている。] 図6 [0047] ここで留意すべきことは、これらの図の中に(特に、図3,4及び5の中に)、円形の断面のカソード・ゲート接続ユニット200が示されているが、カソード・ゲート接続ユニット200及びカソード・コンダクタ202並びにゲート・コンダクタ203は、矩形の断面などのような、円形以外の断面を有していても良いと言うことである。本発明は、カソード・ゲート接続ユニットの断面200の特定のデザインに限定されない。図3,4,5及び6に示されている、本発明の第一の実施形態によれば、カソード・コンダクタ202とゲート・コンダクタ203の間の距離が、ループの全体に沿って最小値に維持されることが可能であり、このようにして、最小のループ・インダクタンスが確保される。] 図3 [0048] カソード・ゲート接続ユニット200は、第二のカソード・ポール・ピースの既存のカソード・トレンチの中に配置される(図5参照方)。それ故に、カソード・ディスク102は、カソード・コンダクタ202に接続され、ここで、ゲート・コンダクタ203は、ゲート・リング201に接続され、それによって、半導体スイッチング・デバイスの全体の容易な構築及びコスト効率の良い製造が可能になる。ここで留意すべきことは、同軸接続の内側の電気的絶縁、即ち、絶縁体204は、非常に薄くても良いと言うことである。その理由は、予想されるピーク電圧が、高々約100Vの範囲内にあるからである。主要な要求は、それ故に、絶縁材料が、セラミック・ハウジング104の残りの部分と同様な密封性を有していなければならないと言うことである。20〜30mmの全長(IGCT基板/パッケージの直径に依存する)及び数100μmの厚さの絶縁体204で、大半のポリマー系またはセラミック系の材料が使用されることが可能である。] 図5 [0049] 更にまた、カソード・ゲート接続ユニット200の挿入は、半導体スイッチング・デバイス100のためのあまり高価でないハウジング104を可能にし、それによって、製造コストが減少される。] [0050] 図7及び8は、本発明の第二の好ましい実施形態に基づく、半導体スイッチング・デバイス100の上面図及び断面図を示している。先に述べたように、本発明は、単一のカソード・ゲート接続ユニット200を備えた構成のみに限定されない。多数の(少なくとも二つの)カソード・ゲート接続ユニット200を設けることも可能である。図7に示されているように、半導体スイッチング・デバイス100のハウジング104の外周の周りに、複数のカソード・ゲート接続ユニット200を配置することが好ましい。] 図7 [0051] 図7に示されているように、12個のカソード・ゲート接続ユニット200が、半導体スイッチング・デバイス100のハウジング104の外周の周りに対称的に配置されている。このようにして、外部回路ユニットに対する半導体スイッチング・デバイス100の電気的接続が、改善されることが可能である。図7に示されたカソード・ゲート接続ユニット200のそれぞれは、図3から6に関係して以上において説明されたやり方で構築される。] 図3 図7 [0052] 図8の中に、本発明の第二の好ましい実施形態に基づく半導体スイッチング・デバイス100が、より詳細に示されている。この目的のために、上面図(図8(a))に加えて、カソード・ゲート接続ユニット200の中心を通る断面図が、図8(b)の右側に示されている。] 図8 [0053] 図9及び10は、インダクタンス及び抵抗のシミュレイションを、本発明の第一の好ましい実施形態に基づくカソード・ゲート接続ユニット200を有する半導体スイッチング・デバイスに対して、図1及び2に示された従来の半導体スイッチング・デバイスと比較して、示している。図9及び10において、“同軸ゲート”とは、本発明の第一の好ましい実施形態に基づくカソード・ゲート接続ユニット200の様々な装置が分析されたことを意味している。図9及び10の中で、“オリジナル・カット”とは、図1及び2に示された従来の半導体スイッチング・デバイスインダクタンス及び抵抗挙動がシミュレートされたことを意味している。] 図1 図9 [0054] 図9に示されているように、インダクタンス402は、動作周波数401の関数としてプロットされている。周波数は、10Hzから1MHzまでが示され、これは、IGCTに対する該当する動作周波数範囲である。参照符号404を有する曲線は、従来技術の中と同様に同軸ゲートを使用しない場合のインダクタンス分布を示している。参照符号405を有する曲線、同軸ゲート1、同軸ゲート2、同軸ゲート3及び同軸ゲート4は、同軸ゲートを使用する場合のインダクタンス分布を示している。図から分かるように、漂遊インダクタンスは、特に高い周波数範囲において、40%まで減少される。] 図9 [0055] 更にまた、図10を参照しながら示されたように、本発明に基づくカソード・ゲート接続ユニット200を使用する装置の抵抗が、従来の半導体スイッチング・デバイスにおいて使用される従来の接続と比較して、シミュレートされた。図10に示されているように、図9に示されたものと同一の周波数範囲で、即ち、10Hzと1MHzの間の、関心の周波数範囲で、抵抗403が、動作周波数401の関数としてプロットされた。曲線406は、従来技術の場合と同様に同軸ゲートを使用しない場合の抵抗分布を示していて、ここで、参照符号407は、同軸ゲートを使用する場合の、即ち、先の図9に関して示されたように、同軸ゲート1、同軸ゲート2、同軸ゲート3及び同軸ゲート4を使用する場合の、抵抗分布を示している。] 図10 図9 [0056] 図10に示された抵抗プロットから、本発明の好ましい実施形態に基づくカソード・ゲート接続ユニット200によりもたらされる抵抗403の増大が、曲線406により示される従来の装置の抵抗と比較して、無視できる程小さいと結論付けることが可能である。] 図10 [0057] 当業者にとって明らかなように、上記の教えに基づいて、変更及び変形が、発明の開示及びその広範なアスペクトから離れること無しに行われても良い。即ち、以上において説明された全ての例は、例として意図されたものであって、本発明の範囲を限定するものではない。] [0058] 100…半導体スイッチング・デバイス、101…アノード、102…カソード・ディスク、103…ゲート・ディスク、104…ハウジング、105…沿面部分、106…絶縁ユニット、107…アノード・コンタクト・レイヤ、108…カソード・コンタクト・レイヤ、109…絶縁レイヤ、110…アノード接続、111…カソード接続、112…基板、200…カソード・ゲート接続ユニット、201…ゲート・リング、202…カソード・コンダクタ、203…ゲート・コンダクタ、204…絶縁体、301…カソード・トレンチ、302…カソード接続ターミナル、303…ゲート接続ターミナル、304…第一のカソード・ポール・ピース、305…第二のカソード・ポール・ピース、401…動作周波数、402…インダクタンス、403…抵抗、404…同軸ゲートを使用しない場合のインダクタンス分布(従来技術)、405…同軸ゲートを使用する場合のインダクタンス分布、406…同軸ゲートを使用しない場合の抵抗分布(従来技術)、407…同軸ゲートを使用する場合の抵抗分布。]
权利要求:
請求項1 外部回路ユニットに対して、カソード・ディスクを有する半導体スイッチング・デバイスを電気的に接続するための接続デバイスであって:当該接続デバイスは、半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有するカソード・ゲート接続ユニットを有し、前記カソード・コンダクタは、カソード・コンダクタを前記カソード・ディスクに接続するように構成されたカソード接続ターミナルを有していること、を特徴とする接続デバイス。 請求項2 下記特徴を有する請求項1に記載の接続デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタが、絶縁材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁されている。 請求項3 下記特徴を有する請求項2に記載の接続デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタは、ポリマーまたはセラミック・ベースの材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁されている。 請求項4 下記特徴を有する請求項2または3に記載の接続デバイス:前記絶縁体は、500μmより小さい厚さを有している。 請求項5 半導体スイッチング・デバイスであって:a)当該半導体スイッチング・デバイスのカソード・ディスク、アノード及びゲートがその上に堆積された基板と;b)当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための接続手段と;を有し、c)前記接続手段は、当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有するカソード・ゲート接続ユニットを有し、前記カソード・コンダクタは、前記カソード・コンダクタを前記カソード・ディスクに接続するように構成されたカソード接続ターミナルを有していること、を特徴とする半導体スイッチング・デバイス。 請求項6 下記特徴を有する請求項5に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタが、絶縁材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁されている。 請求項7 下記特徴を有する請求項6に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタは、ポリマーまたはセラミック・ベースの材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁されている。 請求項8 下記特徴を有する請求項6または7に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記絶縁体は、500μmより小さい厚さを有している。 請求項9 下記特徴を有する請求項6に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記同軸構造は、当該半導体スイッチング・デバイスのゲートを外部回路ユニットに接続するためのゲート・コンダクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタとして形成され、当該半導体スイッチング・デバイスのカソードを外部回路ユニットに接続するためのカソード・コンダクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタとして形成され、または、当該半導体スイッチング・デバイスのゲートを外部回路ユニットに接続するためのゲート・コネクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタとして形成され、当該半導体スイッチング・デバイスのカソードを外部回路ユニットに接続するためのカソード・コンダクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタとして形成される、ようにデザインされている。 請求項10 下記特徴を有する請求項5に記載の半導体スイッチング・デバイス:当該半導体スイッチング・デバイスは、集積ゲート整流サイリスタである。 請求項11 下記特徴を有する請求項5に記載の半導体スイッチング・デバイス:当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための前記接続手段は、当該半導体スイッチング・デバイスのハウジングに取り付けられている。 請求項12 下記特徴を有する請求項11に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記ハウジングは、絶縁材料で作られている。 請求項13 下記特徴を有する請求項12に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記ハウジングは、セラミック材料で作られている。 請求項14 下記特徴を有する請求項5に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ディスクは、カソード・ポール・ピースを有している。 請求項15 下記特徴を有する請求項5に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ディスクは、第一のカソード・ポール・ピース及び第二のカソード・ポール・ピースを有している。 請求項16 下記特徴を有する請求項5に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットのカソード・コンダクタは、前記カソード・コンダクタを前記カソード・ディスクに接続するためのカソード接続ターミナルを有している。 請求項17 下記特徴を有する請求項5に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットのゲート・コンダクタは、前記ゲート・コンダクタを外部回路ユニットに接続するためのゲート接続ターミナルを有している。 請求項18 下記特徴を有する請求項12に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記ハウジングは、アノードからカソード・ディスクへ沿面電流をそらせるために、その外側に、少なくとも一つの沿面部分を有している。 請求項19 下記特徴を有する請求項5から18の何れか1項に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記接続手段は、当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための、ゲート・コンダクタ及びカソード・コンダクタを含む同軸構造を有する、少なくとも二つのカソード・ゲート接続ユニットを有していて、前記少なくとも二つのカソード・ゲート接続ユニットは、カソード・ディスクの周りに対称的に配置されている。 請求項20 下記特徴を有する請求項19に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタは、絶縁材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁されている。 請求項21 下記特徴を有する請求項20に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタは、ポリマーまたはセラミック・ベースの材料を有する絶縁体により、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタから絶縁されている。 請求項22 下記特徴を有する請求項20または21に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記絶縁体は、500μmより小さい厚さを有している。 請求項23 下記特徴を有する請求項20に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記同軸構造は、当該半導体スイッチング・デバイスのゲートを外部回路ユニットに接続するためのゲート・コンダクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタとして形成され、当該半導体スイッチング・デバイスのカソードを外部回路ユニットに接続するためのカソード・コンダクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタとして形成され、または、当該半導体スイッチング・デバイスのゲートを外部回路ユニットに接続するためのゲート・コンダクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの外側のコンダクタとして形成され、当該半導体スイッチング・デバイスのカソードを外部回路ユニットに接続するためのカソード・コンダクタが、前記カソード・ゲート接続ユニットの内側のコンダクタとして形成される、ようにデザインされている。 請求項24 下記特徴を有する請求項19に記載の半導体スイッチング・デバイス:当該半導体スイッチング・デバイスは、集積ゲート整流サイリスタである。 請求項25 下記特徴を有する請求項19に記載の半導体スイッチング・デバイス:当該半導体スイッチング・デバイスのカソード及びゲートを外部回路ユニットに電気的に接続するための前記接続手段は、当該半導体スイッチング・デバイスのハウジングに取り付けられている。 請求項26 下記特徴を有する請求項25に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記ハウジングは、絶縁材料で作られている。 請求項27 下記特徴を有する請求項25に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記ハウジングは、セラミック材料で作られている。 請求項28 下記特徴を有する請求項19に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ディスクは、カソード・ポール・ピースを有している。 請求項29 下記特徴を有する請求項19に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ディスクは、第一のカソード・ポール・ピース及び第二のカソード・ポール・ピースを有している。 請求項30 下記特徴を有する請求項19に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットのカソード・コンダクタは、前記カソード・コンダクタを前記カソード・ディスクに接続するためのカソード接続ターミナルを有している。 請求項31 下記特徴を有する請求項19に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記カソード・ゲート接続ユニットのゲート・コンダクタは、前記ゲート・コンダクタを外部回路ユニットに接続するためのゲート接続ターミナルを有している。 請求項32 下記特徴を有する請求項26に記載の半導体スイッチング・デバイス:前記ハウジングは、アノードからカソード・ディスクへ沿面電流をそらせるために、その外側に、少なくとも一つの沿面部分を有している。
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引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题 JPS61193483A|1985-02-22|1986-08-27|Toshiba Corp|Switching element| WO1997021248A1|1995-12-06|1997-06-12|Hitachi, Ltd.|Thyristor blocable par la gachette et dispositif convertisseur de puissance utilisant celui-ci|JP2016521462A|2013-05-13|2016-07-21|アーベーベー・テクノロジー・アーゲー|半導体スイッチング素子のためのスペーサシステム|BE623873A|1961-10-24|1900-01-01||| US4063348A|1975-02-27|1977-12-20|The Bendix Corporation|Unique packaging method for use on large semiconductor devices| US4068368A|1975-10-14|1978-01-17|The Bendix Corporation|Closure for semiconductor device and method of construction| DE2636631A1|1976-08-13|1978-02-16|Siemens Ag|THYRISTOR| DE2641483A1|1976-09-15|1978-03-16|Siemens Ag|SEMICONDUCTOR COMPONENT| US4455448A|1981-12-02|1984-06-19|Watkins-Johnson Company|Housing for microwave electronic devices| JPH0831488B2|1987-12-03|1996-03-27|三菱電機株式会社|半導体装置| AT73589T|1988-01-26|1992-03-15|Asea Brown Boveri|Hochleistungsschalter.| DE4227063A1|1992-08-15|1994-02-17|Abb Research Ltd|Abschaltbares Hochleistungs-Halbleiterbauelement| JP3180863B2|1993-07-27|2001-06-25|富士電機株式会社|加圧接触形半導体装置およびその組立方法| JP3471880B2|1994-02-23|2003-12-02|三菱電機株式会社|圧接型半導体装置| TW525417B|2000-08-11|2003-03-21|Ind Tech Res Inst|Composite through hole structure| EP1298733A1|2001-09-28|2003-04-02|ABB Schweiz AG|Turn-off high-power semiconductor device| US6982384B2|2003-09-25|2006-01-03|Intelliserv, Inc.|Load-resistant coaxial transmission line|US8607682B2|2009-04-23|2013-12-17|Saab Ab|Countermeasure arrangement| CN103346130B|2013-07-01|2015-11-11|株洲南车时代电气股份有限公司|Gct门极绝缘座及门极组件| CN104347686A|2013-07-30|2015-02-11|安徽省祁门县黄山电器有限责任公司|一种高电流上升率的晶闸管芯片| WO2016168376A1|2015-04-14|2016-10-20|Hrl Laboratories, Llc|Nano vacuum gap device with a gate-all-around cathode| CN109860285A|2017-11-30|2019-06-07|株洲中车时代电气股份有限公司|大功率半导体元件|
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